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来源：百度知道 编辑：UC知道 时间：2024/05/21 10:59:34
Disclosed are organometallic compounds derived from Groups VIIb, VIII, IX, and X metals useful as precursors for the formation of metal containing powders and for the chemical deposition of the metals on substrates, particularly for the chemical vapor deposition of metal films suitable for the manufacture of electronic devices. Methods for their use are also disclosed. The preferred organometallic compounds of the present invention are of the formula (R1)m M(PR23)x, where M is a metal selected from the group consisting of manganese, technetium, rhenium, iron, cobalt, nickel, ruthenium, rhodium, palladium, osmium iridium and platinum wherein m is 0, 1, 2, 3 or 4; x is 2, 3, 4 or 5 and m+x are 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8, m and x selected according to each metals appropriate valence; each R1 is independently selected from the group consisting of hydrogen, deuterium, N2, H2, D2 and a variety of substituted alkyl groups; each R2 is independently selected from the group consisting o
现摘要透露有机化合物来自群体VIIB部,第八、第九、 由于体有用金属与X形成含有金属粉末的沉积和化学 对金属基板,尤其是对金属的化学气相沉积薄膜适合制造电子器件. 其使用方法也透露. 有机化合物的首选本发明的配方是米(R1代)米×(pr23)、 那里是一米的金属挑选出来,第一组由锰、锝、铼、铁、钴、镍、钌、铑、 钯、锇、铱铂其中M是0、1、2、3或4; X是2,3, 4或5米×+有2,3,4,5,6,7或8 米和X挑选合适的价按每个金属; R1的是每一组由独立选自氢、氘、氮、氢气、 D2和各种烷基取代群体; R2中的每个组由独立选自烷基低、芳、芳基烷基、烷基的Z、 芳基、芳基烷基的Z-那里的ZZ是选自组风、含硅、氧、oxysilyl、硅、oxysiloxy,silyalkyl, oxysilylalkyl,siloxyalkyl,oxysiloxyalkyl,silylalkoxy,silylalkoxy,siloxyalkoxy和oxysiloxyalkoxy; 其中,M是当钴一派R1的选择是氮气、 然后是2米,第二组R1的氘是氢或者.
摘要 被透露有机金属的化合物从小组VIIb, VIII, IX,和X 金属被获得有用作为前体为金属的形成包含粉末和为金属的化工证言在基体, 特别为金属影片的化工蒸气证言适当为电子设备制造。方法至于他们的使用并且被透露。当前发明的更喜欢的有机金属的化合物是惯例(R1)m M(PR23)x, M 是金属被挑选从包括锰、technetium 、8 、钢、钴、镍、钌、铑、钯、锇铱和白金的地方m 是0, 1, 2, 3 或4; x 是2, 3, 4 或5 和m+x 是2, 3, 4, 5, 6, 7 或8, m 和x 被选择根据各金属合适化学价; 各R1 独立地被挑选从包括氢、氘、N2 、H2 、D2 和各种各样的被替代的烷基小组; 各R2 独立地被挑选从包括Z 被挑选从包括oxy 的更低的烷基、芳香族羟基、arylalkyl 、和烷基Z 、芳香族羟基Z 和arylalkyl-Z, 甲硅烷基、siloxy 、oxysilyl 、siloxy 、oxysiloxy 、silyalkyl 、oxysilylalkyl 、siloxyalkyl 、oxysiloxyalkyl 、silylalkoxy 、silylalkoxy